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                           涂层测厚仪

        涂层测厚仪适用于研发和半导体,FPD,纳米技术,电子材料及特殊涂层生产线中的涂层测量.例如在半导体行业,需根据图样精确地获取晶圆表面的各个涂层沉积。涂层测量系统是用来监控工序并通过测量涂层的厚度决定产品的质量。

            测量涂层厚度有许多种方法。其中最常见的是基于机械技术的触针方法,显微镜技术和光学技术。

            本涂层测厚仪是光学技术方法。因而由涂层表面的反射光和基板表面反射光之间的干涉现象或是光的相位差决定涂层的性质。这样我们不但可以测量涂层厚度还可测量光学常数。如果是透明涂层且可维持光的干涉性,便可用ST系列测量任何样品。通过数学计算,多层涂层的每层厚度都可测量。由于采用的是用户友好界面,操作十分简单。 样品不会受到损害,并可快速测量从Å到数十μm的大范围厚度。

         

        一、测量原理

         利用光的间接测量

         &信号通道

               光源发出的可见光(卤钨灯) => 涂层层(样品)=> 表面和界面的反射 => 光纤探针 => 分光计(检测器) =>

        通过光栅波长分解 => CCD电子信号转换 => A/D转换 => 通过 USB连接电脑 => 软件

         通过光谱拟合厚度测量

           根据涂层厚度和折射率(N&K)光谱呈现特殊的形状。

           通过拟合计算光谱和测量光谱将涂层厚度最优化时可计算出厚度。 

         

        涂层测厚仪, 为研发和实验室提供不同的模式

        ST2000-DLXn (ST2K)

        ST4000-DLX (ST4K)

        ST5030-SL

         

        涂层测厚仪 : R&D 实验室规模

        非接触/非破坏性

        反射计

        实时测量,多点显示

        基于软件的Windows ( Excel, Origin, MS-Word save)

        各种n, k 模式(Cauchy, Cauchy Expotential, Sellmeier)

        2D,3D 测绘数据显示 (逐点详述)
        半自动机械平台控制
        快速测量,操作简便
        CCD摄像头 + 自动对焦

         

         

        二、系统组件

        标准件

         

         

        2048像素CCD 阵列

        MTS75S(ST2K) / Olympus (ST4K, ST5030)

           

        200 反射光纤

        光学透镜

        M4X, M10X (ST2K);   M5X, M10X (ST4K, ST5030);   M50X(Option)

           

        VisualThick3.xx(ST2K & ST4K) ;   AThickOS(Optional);   VisualThickA (ST5030)

         

         

        配件

         

         

        线

        USB 线缆

           

        标准样品

        线

        110220V, 1

            CD

        软件 & 操作指南

           

        操作指南

        快速指南

        快速指南

        主备用灯泡

        12V, 100W,卤钨灯(ST4K,ST5030);  12V, 35W,卤钨灯 (ST2K)

        聚焦备用灯泡

        5V, 6W, 卤钨灯

        SRM (option)(标准参考样品)

        晶圆表面硅上面二氧化硅上生成的四个热氧化涂层。

        CCD摄像头(选项)

        640×480 彩色CCD

         

         

         

        ST2000-DLXn 涂层测厚仪

        基本组件

            检测器 (顶点用于测量)

            用于反射的光纤

            电源线

            显微镜

            10倍物镜

            4倍物镜

            卤素灯

            数据线

        可选项目

            40倍物镜(用于表面观察)

            CCD 摄像头

            标准样品

         

        ST4000-DLX 涂层测厚仪

        基本组件

            检测器(顶点用于测量)

            用于反射的光纤

            电源线

            显微镜

            5倍物镜

            10倍物镜

            卤素灯

            8”平台

            滤波器

            数据线

        可选项目

            50倍物镜

            CCD 摄像头

            12” 平台

            透射?

            标准样品

         

        ST5030-SL 涂层测厚仪

        基本组件

            检测器(顶点用于测量)

            用于反射的光纤

            电源线

            显微镜

            5倍物镜

            10倍物镜

            卤素灯

            12”平台

            滤波器

            数据线

            CCD 摄像头

            测量系统

        可选项目

            标准样品

            防震台

         

        三、系统软件

        操作系统 : VThick3.xx

        ST2000-DLXn & ST4000-DLX的操作软件

        操作软件 : AThickOS

        ST2000-DLXn & ST4000-DLX (可选) 的操作软件

        操作系统 : VisualThickA

        ST5030-SL的操作软件

         

         

        四、性能指标

         

        ST2000-DLXn 涂层测厚仪

         

         

        测量范围

        20nm35

        测量分辨率

        1.5nm

        测量速度

        12 sec/site

        平台尺寸

        150×120mm  (70×50 mm 移动)

        测量样品尺寸

        ≤ 4”

        光斑尺寸

        一般为20

        测量原理

        反射计

        测量方法

        非接触

        类型

        手动

        尺寸

        190×265×316 mm

        适用温湿度

        5 35°C , 3080% RH

        重量

        12Kg

        旋转头

        三目旋转头

        照明

        控制装置和变压器内置12V/35W卤素灯

         

         

         

        特性

         快速测量 & 操作简便

         非接触 & 非破坏性

         良好的重复性和再现性

         基于用户易操作界面的Windows

         各个视图和储存数据的打印功能

         测量可达3

        应用领域

          : PVA, PET, PP, PR

         介质材料 : SiO2, TiO2, ZrO2, Si3N4

          : Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS

         

         

        ST4000-DLX 涂层测厚仪

         

        测量范围

        10nm35

        测量分辨率

        1nm

        测量速度

        12 sec/site

        平台尺寸

        200mm×200mm(8”)

        300mm×300mm(12”)

        测量样品尺寸

        ≤ 8”, 12”(可选)

        光斑尺寸

        40/20, 4(可选)

        测量原理

        反射计

        测量方法

        非接触

           

        手动

           

        500×610×640 mm

           

        45Kg

        适用温湿度

        5 35°C , 3080% RH

           

        同轴粗微及细焦控制

           

        12V/100W 卤素灯

         

         

         

        可选项目

         标准样品

         CCD 摄像头

         透射?

         Z轴自动轴系运动(透镜)

        特性

         快速测量 & 操作简便

         非接触 & 非破坏性

         良好的重复性和再现性

         基于用户易操作界面的Windows

         视图和储存数据的打印功能

        应用

         具备ST2000的所有功能且测量更精确

         用于晶圆测量和 OLED

         

         

         

        ST5030SL 涂层测厚仪

        测量范围

        10nm35

        测量分辨率

        1nm

        测量速度

        12 sec/site

        平台尺寸

        300mm×300mm

        测量样品尺寸

        412”

        光斑尺寸

        40/20, 4(可选)

        测量原理

        反射计

        测量方法

        非接触

           

        自动

            

        500×750×650 mm

           

        100Kg

        适用温湿度

        5 35°C , 3080% RH

           

        12V / 100W 卤素灯

        可选项目

        标准样品  防震台

         

         

         

        特性

         快速测量 & 操作简便

         非接触 & 非破坏性

         良好的重复性和再现性

         基于用户易操作界面的Windows

         各个视图和储存数据的打印功能

         2D / 3D 绘制与曲面轮廓

         自动平台控制 & 防震台

         CCD 摄像头

         自动对焦功能

        应用领域

         具备ST2000的所有功能且测量更精确

         用于大型晶圆测量。

         

        五、适用材料   10 Å ()=1nm (纳米);1000nm=1μm (微米)

        测量范围 (单位Å)

        试样(Å)

        重复性(Å)30times

        SRM

        1) SiO2/Si

        30020000

        5000

        2

        a-Si

        1) a-Si/Glass

        10050000

        1500

        2.5

        Poly-Si

        1) Poly-Si/SiO2/Si

        10050000(Poly-Si)/30020000 (SiO2)

         

        2.5

        n+a-Si

        1) n+a-Si/Glass

        10050000

        1500

        2.5

        2) n+a-Si/a-Si/Glass

        10050000

        2000

        5

        3) n+a-Si/Metal

        10050000

        1500

        2.5

        4) n+a-Si/a-Si/Metal

        10050000

        2000

        5

        SiNx

        1) SiNx/Glass

        10060000

        4000

        5

        2) SiNx/Si

        10060000

        4000

        5

        3) SiNx/SiO2/Si

        10060000(SiNx)/30020000 (SiO2)

        4000

        5

        4) a-Si/SiNx/Glass

        20050000(a-Si) / 20050000 (SiNx)

        2500/4000

        6 / 10

        5) n+a-Si/a-Si/SiNx/Glass

         

         

         

        6) SiNx/Metal

        10050000

        4000

        5

        7) a-Si/SiNx/Metal

        20050000(a-Si) / 20050000 (SiNx)

        2500/4000

        6 / 10

        8) n+a-Si/a-Si/SiNx/Metal

         

        2500/4000

        6 / 10

        PR

        1) PR/Glass

        100100000

        15000

        15

        2) PR/Metal

        500100000

        15000

        10

        3) Negative PR/Si

        500100000

        15000

        10

        4) Negative PR/SiO2/Si

        500100000(PR)/30020000 (SiO2)

         

         

        5) Positive PR/Si

        500100000

        15000

        10

        6) Positive PR/SiO2/Si

        500100000(PR)/30020000 (SiO2)

         

         

        O.C

        (or PS)

        1) O.C/Glass

        100050000

        40000

        10

        2) O.C/SiNx/Glass

        50050000(O.C)/50030000(SiNx)

        2500/4500

        25/20

        ITO

        1) ITO/Glass

        1000200000

        1500

        3

        CF

        (RGB)

        1) CF/Glass

        700030000

        15000

        30/20/10

        2) CF/BM

        700030000

        1500

        7/15/20

        3) ITO/CF/Glass

        1500 (ITO) /15000 (Blue CF)

        1500/15000

        10/30

        PI

        1) PI/Glass

        10070000

        1000

        5

        2) PI/ITO/Glass

        30010000 (PI)/200100000 (ITO)

        500/1000

        10/8

        3) PI/Si

        10070000

        1000

        5

        Film

        Thick Film

        550

         

        10

        反射模式

        400800nm

         

        2%

        10 Å ()=1nm (纳米);1000nm=1μm (微米)

         

         

         

         

         

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